【編者按】近年來(lái)，中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)一直處于風(fēng)口之中。隨著科創(chuàng)板的推出，越來(lái)越多的企業(yè)準(zhǔn)備IPO以謀求更快的發(fā)展。為了更全面地了解IPO公司整體財(cái)務(wù)水平和行業(yè)地位，推出“IPO價(jià)值觀——財(cái)務(wù)指標(biāo)”系列，將正在IPO的公司各方面財(cái)務(wù)指標(biāo)與集微數(shù)據(jù)庫(kù)中A股135家中國(guó)芯上市公司對(duì)比分析，并對(duì)其排名，以供半導(dǎo)體投資者和行業(yè)人員參考。本期進(jìn)行對(duì)比分析的公司為拓荊科技股份有限公司。

據(jù)筆者查詢上交所網(wǎng)站可知，拓荊科技科創(chuàng)板IPO處于已問(wèn)詢狀態(tài)。據(jù)招股說(shuō)明書顯示，拓荊科技主要從事高端半導(dǎo)體專用設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和技術(shù)服務(wù)。公司聚焦的半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備與光刻機(jī)、刻蝕機(jī)共同構(gòu)成芯片制造三大主設(shè)備。

公司主要產(chǎn)品包括等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）設(shè)備、原子層沉積（ALD）設(shè)備和次常壓化學(xué)氣相沉積（SACVD）設(shè)備三個(gè)產(chǎn)品系列，已廣泛應(yīng)用于國(guó)內(nèi)晶圓廠14nm及以上制程集成電路制造產(chǎn)線，并已展開(kāi)10nm及以下制程產(chǎn)品驗(yàn)證測(cè)試。

報(bào)告期內(nèi)，主要產(chǎn)品銷售收入及占公司主營(yíng)業(yè)務(wù)收入的比重如下：

分業(yè)務(wù)來(lái)看，報(bào)告期內(nèi)，拓荊科技PECVD設(shè)備收入占比較高且增長(zhǎng)較快，為公司的主要收入來(lái)源，占比近100%。

【編者按】近年來(lái)，中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)一直處于風(fēng)口之中。隨著科創(chuàng)板的推出，越來(lái)越多的企業(yè)準(zhǔn)備IPO以謀求更快的發(fā)展。為了更全面地了解IPO公司整體財(cái)務(wù)水平和行業(yè)地位，推出“IPO價(jià)值觀——財(cái)務(wù)指標(biāo)”系列，將正在IPO的公司各方面財(cái)務(wù)指標(biāo)與集微數(shù)據(jù)庫(kù)中A股135家中國(guó)芯上市公司對(duì)比分析，并對(duì)其排名，以供半導(dǎo)體投資者和行業(yè)人員參考。本期進(jìn)行對(duì)比分析的公司為拓荊科技股份有限公司。

據(jù)筆者查詢上交所網(wǎng)站可知，拓荊科技科創(chuàng)板IPO處于已問(wèn)詢狀態(tài)。據(jù)招股說(shuō)明書顯示，拓荊科技主要從事高端半導(dǎo)體專用設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和技術(shù)服務(wù)。公司聚焦的半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備與光刻機(jī)、刻蝕機(jī)共同構(gòu)成芯片制造三大主設(shè)備。

公司主要產(chǎn)品包括等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）設(shè)備、原子層沉積（ALD）設(shè)備和次常壓化學(xué)氣相沉積（SACVD）設(shè)備三個(gè)產(chǎn)品系列，已廣泛應(yīng)用于國(guó)內(nèi)晶圓廠14nm及以上制程集成電路制造產(chǎn)線，并已展開(kāi)10nm及以下制程產(chǎn)品驗(yàn)證測(cè)試。

報(bào)告期內(nèi)，主要產(chǎn)品銷售收入及占公司主營(yíng)業(yè)務(wù)收入的比重如下：

分業(yè)務(wù)來(lái)看，報(bào)告期內(nèi)，拓荊科技PECVD設(shè)備收入占比較高且增長(zhǎng)較快，為公司的主要收入來(lái)源，占比近100%。

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