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集微網(wǎng)消息，3月21日，有投資者在投資者互動平臺提問：蘇大維格官網(wǎng)顯示，iGrapher系列設(shè)備已用于4寸～8寸MEMS制備、17寸-65寸精密電路制備的工業(yè)應(yīng)用。請問貴公司的光刻設(shè)備能否用于精密電路和MEMS的大規(guī)模制備?有沒有提供給PCB或者M(jìn)EMS制造廠商？

蘇大維格表示，公司激光直寫光刻機(jī)具體應(yīng)用包括柔性電子、MEMS以及特定領(lǐng)域半導(dǎo)體比如半導(dǎo)體功率芯片等產(chǎn)品的研發(fā)與制造。公司光刻設(shè)備整機(jī)除自用及向國內(nèi)外高校及科研院所銷售外，2021年開始向企業(yè)拓展，并成功實現(xiàn)了對半導(dǎo)體領(lǐng)域企業(yè)的銷售；在光刻機(jī)關(guān)鍵器件方面，公司向上海微電子提供了其半導(dǎo)體領(lǐng)域投影式光刻機(jī)用的定位光柵部件。

資料顯示，蘇大維格主要從事微納關(guān)鍵技術(shù)、高端智能制造設(shè)備和功能材料的創(chuàng)新應(yīng)用，是首批認(rèn)證的國家高新技術(shù)企業(yè)。其光刻儀器事業(yè)部研制了多種用于MEMS芯片的光刻設(shè)備MiScan200（8”~12”）、微納光學(xué)的MicroLab（4”~8”）和超表面、裸眼3D顯示、光電子器件研究的納米光刻設(shè)備NanoCrystal（8”~32”）。（校對/Arden）