原標題：面向3nm！ASML將于2021年推下一代EUV光刻機

IT之家2月19日消息 IT之家獲悉，ASML正在研發新一代EUV光刻機EXE:5000系列，最快會于2021年面世。

據IT之家了解，現在ASML銷售的光刻機主要為NXE:3400B和改進型的NXE:3400C，結構上相似。差別在于NXE:3400C采用模塊化設計，將平均維護時間從48小時縮短到8-10小時；NXE:3400C的產量也從125WPH提升到了175WPH。這兩款EUV光刻機屬于第一代，物鏡系統的NA（數值孔徑）為0.33。

在光刻機的分辨率公式中，NA數字越大，代表光刻機精度更高。ASML現在在研發新一代EUV光刻機EXE:5000系列，NA為0.55。主要合作伙伴有Carl Zeiss AG和IMEC比利時微電子中心。

據悉，EXE:5000系列EUV光刻機主要面向3nm時代，目前臺積電和三星的制程工藝路線圖已經到了3nm，要想讓技術盡快落地到實際，EXE:5000系列EUV光刻機的研發極為重要。

據ASML的爆料，EXE:5000系列EUV光刻機樣機最快會于2021年面世，最快可能會于2023年或者2024年上市。

光刻機是目前世界上最復雜的精密設備之一，芯片制造的核心設備之一，除了可以用來生產芯片，還有用于封裝的光刻機、LED制造領域的投影光刻機。作為全球唯一能生產EUV光刻機的公司